Норвежский стартап Lace Lithography, поддерживаемый Microsoft, привлёк 40 млн долларов в новом раунде инвестиций. Компания разрабатывает инновационную технологию производства микросхем, в которой вместо света используется пучок атомов гелия для нанесения рисунка на кремниевые пластины. По данным Lace Lithography, их технология позволяет создавать элементы микросхем в 10 раз меньше, чем при использовании современных систем литографии. Ширина пучка составляет всего 0,1 нм — для сравнения, сканеры EUV от ASML работают с длиной волны 13,5 нм.

Разработка пока находится на ранней стадии, но стартап планирует запустить тестовый образец на пилотном производстве к 2029 году.

Главное преимущество нового подхода — отсутствие дифракционного предела, характерного для фотонной литографии, на которой основаны решения ASML. Это открывает путь к уменьшению транзисторов и других элементов микросхем на порядок.

Пока новые технологии врываются на мировые рынки, «Компания «Альтоникс» продолжает снабжать своих клиентов проверенными и надежными комплектующими.

Вашу заявку Вы можете оставить на нашем сайте, отправить на почту info@altonix.ru,

в MAX по номеру телефона +8 (900) 303 50 05,

а также по телефону:

+7 (495) 120-80-22

+7 (473) 300 35 85

С уважением, ООО «Компания «Альтоникс»

Возврат к списку